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Filmetrics 光學厚膜測厚儀

簡要描述:Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀利用光譜反射原理,可以測量厚度達到3毫米的眾多半導體及介電層薄膜。相對于較薄的膜層,這種厚膜的表面較粗糙且不均勻,F(xiàn)3-sX系列膜厚儀配置10微米的測量光斑,從而可以容易地測量其他膜厚測量儀器不能測量的膜層,并且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測量、護涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優(yōu)異表現(xiàn)。

  • 產(chǎn)品型號:F3-sX
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2025-06-24
  • 訪  問  量:2603
產(chǎn)品詳情

Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀




Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產(chǎn)品介紹:

Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀利用光譜反射原理,可以測量厚度達到3毫米的眾多半導體及介電層薄膜。相對于較薄的膜層,這種厚膜的表面較粗糙且不均勻,F(xiàn)3-sX系列膜厚儀配置10微米的測量光斑,從而可以容易地測量其他膜厚測量儀器不能測量的膜層,并且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測量、護涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優(yōu)異表現(xiàn)。


Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產(chǎn)品特點優(yōu)勢:

  • 非接觸測量:避免損傷薄膜,適用于脆弱或敏感材料;

  • 多場景適用性:基本上光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測量。

  • 測量速度快:配置完成后,數(shù)秒內(nèi)即可完成測量。

  • 采用近紅外光(NIR)來測量膜層厚度,因此可以測試一些肉眼看是不透明的膜層

  • 配件包括自動繪圖平臺、測量點可視化攝像機,和可見光擴展波段選項


Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產(chǎn)品測量原理:

當入射光穿透不同物質(zhì)的界面時將會有部分的光被反射,由于光的波動性導致從多個界面的反射光彼此干涉,從而使反射光的多波長光譜產(chǎn)生震蕩的現(xiàn)象。從光譜的震蕩頻率,可以判斷不同界面的距離進而得到材料的厚度(越多的震蕩代表越大的厚度),同時也能得到其他的材料特性如折射率與粗糙度。


Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產(chǎn)應用與膜層范例:

  • 薄膜特性:厚度、反射率、透射率、光學常數(shù)、均勻性、刻蝕量等

  • 薄膜種類:透明及半透明薄膜,常見如氧化物、聚合物甚至空氣

  • 薄膜狀態(tài):固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)薄膜都可以測量

  • 薄膜結(jié)構(gòu):單層膜、多層膜;平面、曲面



Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產(chǎn)品常見工業(yè)應用:

半導體膜層

顯示技術(shù)

消費電子

派瑞林

光刻膠

OLED

防水涂層

電子產(chǎn)品/電路板

介電層

ITO和TCOs

射頻識別

磁性材料

砷化鎵

空氣盒厚

太陽能電池

醫(yī)學器械

微機電系統(tǒng)

PVD和CVD

鋁制外殼陽極膜

硅橡膠



Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產(chǎn)品參數(shù):

波長范圍:

1280-1340nm

光源:

200KMTBFSLED

厚度測量范圍n=1.5:

15um-2mm

厚度測量范圍n=3.5:

7um-1mm

光斑大?。?/span>

標準工作距離53mm

測量精度:

5nm2



Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀測量圖:


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